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Mit der gründlichen Untersuchung der photochemischen Reaktion Hochdruck-Dichtung Typ Photokatalytische Reaktion wird zunehmend von den meisten Kunden bevorzugt, das Gerät besteht hauptsächlich aus einer Edelstahl-Reaktionsgefäß, PTFE-Sätze, Druck-Quarzglas, Filter etc... Wahl der Überdruck release Gas-Schutzeinrichtung für den sicheren Betrieb des Rings. Design der Hauptseite photochemische, Photokatalyse, leichte Verschlechterung, organische Chemie, Phase, Gas-Liquid-Phase-Reaktion-Gas, kann auch für die fest-flüssig-Phase, Gas-Phase-Reaktion verwendet werden, realisieren die volle Reaktion Gas- und Material, die maximale Spannung des 2.0MPA, kann auch mehr angepasst werden Hochdruck-Reaktor, das System hat angemessene Struktur, einfache Technik, komfortable Bedienung, stabiler Betrieb, Schutz der Menschenrechte , freie Kombination, die einzigartigen Vorteile wie z. B. flexible Änderung. (die TOPTION Fabrik exklusiven Daten keine inländische Hersteller Verwendung ermächtigen, die Plagiate werden beschrieben, bitte respektieren Sie die Rechte an geistigem Eigentum)
Technische Daten:
Modell
TPR-S150
TPR-S300
TPR-S500
TPR-S1000
Bestrahlung-Durchmesser
80MM
80MM
80MM
100MM
Leichten Druck-Fenster
Intron
Intron
Intron
Intron
Das Hauptmaterial des
das Reaktionsgefäß
(optional)
Edelstahl 316L
/ Reintitan
/ Hastelloy Legierung Material
Edelstahl 316L
/ Reintitan
/ Hastelloy Legierung Material
Edelstahl 316L
/ reine Titan
/ Hastelloy Legierung material
Edelstahl 316L
/ reine Titan
/ Hastelloy Legierung material
Einzigen Korrosion
Innere Kapazität PTFE
150ML
300ML
500ML
1000ML
Jacke-Typ-Korrosion
resistent PTFE-inner
Kapazität (optional)
150ML
300ML
500ML
1000ML
Entwurf-Druck (optional)
2KG / 5KG / 10KG / 20KG
2KG / 5KG / 10KG / 20KG
2KG / 5KG / 10KG / 20KG
2KG / 5KG / 10KG / 20KG
Optionale Komponenten:
Der Name der Komponente |
Technische Daten
Hohe und niedrige Hochtemperatur-Thermostat
-120℃ ~ 300℃, kann angepasst werden
Überdruck-Freigabe-Gas-Schutzeinrichtung
Kann angepasst werden
Taylor-Norm-Sieb
Kann angepasst werden
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