TPR-HP Hochdruck-Photochemische Reaktionsapparate, Photochemische Reaktor-Design
1.Main Komponenten: Edelstahl-Reaktionsgefäß, PTFE-Sets, Druck-Quarzglas, Filter etc.
2.Customization: -120 ℃ ~ 300 ℃ Hoch-und Niedertemperatur-Zirkulator, Überdruck-Release Gas-Schutz-Gerät, Taylor Standard-Sieb.
3.This Typ Hochdruck-photochemischen Reaktor-Schiff müssen zusammen mit TOP-X-Serie Lichtquelle verwenden.
Technische Parameter von TPR-HP Hochdruck-photochemischen Reaktor:
Modell | TPR-HP150 | TPR-HP300 | TPR-HP500 | TPR-HP1000 |
Lichtquelle Typ | Xenon / UV Lampe | |||
Lichtquelle Leistung | 500W | 500W | 1000W | 1500W |
Lichtquelle Lebensdauer | 1000H | 1000H | 1000H | 1000H |
Strahlungseigenschaften | Punktquelle | Punktquelle | Punktquelle | Punktquelle |
Bestrahlungsdurchmesser | 80MM | 80MM | 80MM | 100MM |
Kühlsystem | 3 starker Heizkörper | |||
Drucklichtfenster | haben | |||
Magnetrührgerät | haben | |||
Hebebühne | haben | |||
Das Hauptmaterial des Reaktionsgefäßes | Edelstahl 316L / ( reines Titan / Hastelloy Legierungsmaterial ) optional | |||
Einfache Korrosion PTFE Innenkapazität | 150ML | 300ML | 500ML | 1000ML |
Korrosionsbeständige PTFE-Innenkapazität (optional) | 150ML | 300ML | 500ML | 1000ML |
Designdruck (optional) | 2KG / 5KG / 10KG / 20KG |
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